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利用矽晶片製造與整合微系統的思維與架構

限制，筆者架構出一種結合濕式非等向性化學蝕刻和乾式的深活性離子蝕刻矽基 ... 蝕刻的材料，例如二氧化矽、氮化矽、或者是硼蝕刻終止層，以便形成蝕刻的屏.

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