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中芯國際(00981):向7nm的追趕之路上DUV是解決之道嗎?
中芯國際 首席執行官梁孟鬆也曾介紹,在7nm工藝發展中,N7+工藝纔開始使用EUV工藝,並且光罩層數較少。僅5nm節點上才充分利用EUV光刻工藝,達到14層EUV光罩 ...
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