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中國自製光刻機
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重大突破!国产28nm光刻机即将量产,可通过多重曝光制造 ...
immersion式光刻机就是浸没式光刻机,采用ArF光源,也就是193nm波长的光源,这是第四代光刻机,这也标志着中国和ASML在光刻机上仅有1代的差距,上海微电子 ...
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