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中國自製光刻機
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國產光刻機風勁潮湧,任重而道遠
在芯片制造的前道工藝環節中,最關鍵、市場規模最大的設備是光刻(光刻曝光)、刻蝕、薄膜沉積(CVD)三大領域。 中國「芯」時代之光刻機:國產光刻機風勁.
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