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能造5nm芯片的EUV光刻机，三大核心技术均已被我国突破

按中国的“潜规则”，工程样机没有经过严格测试认定成功之前是不可能邀请领导来参观的，敢让领导来参观并在官网上对外公布，那就说明该工程样机不仅制造成功 ...

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