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中國「芯」時代之光刻機：國產光刻機風勁潮湧，任重而道遠

在芯片制造的前道工藝環節中，最關鍵、市場規模最大的設備是光刻（光刻曝光）、刻蝕、薄膜沉積（CVD）三大領域。 中國「芯」時代之光刻機：國產光刻機風勁.

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