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中國光刻機研發
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国产光刻机背后的希望 - IT之家
跨越13 年研发,这台可用于28nm 制程芯片生产的光刻机,可以说被中国芯片业期盼已久。 02. 上海微电子:深紫外线光刻机水平有望追平ASML. 从技术层面来讲 ...
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