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中國光刻機研發
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神秘的光刻机(三)中国自主发展之路走到哪了? - 腾讯新闻
2002年,台积电联合ASML成功研发出第四代的浸没式193nm光刻机,将芯片制程推进到22nm。但同年,国内刚刚启动193nm光源ArF光刻机的研发项目,刚刚跟上国外 ...
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