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Lab0 無塵室進出與晶圓清洗實驗

簡易清洗主要用於每次微影晶圓. 前，先使用丙酮去除wafer表面上的有機物質與油脂等；再使用異丙醇沖洗過wafer表. 面，使wafer表面能具親水性，再以純水清洗，將殘留的丙酮 ...

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