為什麼這篇xrd peak分析鄉民發文收入到精華區:因為在xrd peak分析這個討論話題中,有許多相關的文章在討論,這篇最有參考價值!作者darkbishop (自由山丘上的春樹)看板Chemistry標題[實驗] XRD圖譜分析時間...
最近在做一個實驗
蒙脫土高分子複合材料
主要是先將蒙脫土粉末浸泡在水或酒精中使其膨潤
之後加入插層劑(四級銨鹽)共同強攪拌
原理是希望大分子插層劑與蒙脫土中的K+置換
藉此撐開蒙脫土的層板結構
之後烘乾磨粉
此時要去打一次XRD 與 未插層的MMT(僅含K+)的XRD相互做比較
想請問一下 XRD的Y軸 intensity應有何變化 peak變高或變低?
理想上晶體間的間距變大了 peak會變高還是變低?
小蛇的老師說都沒peak或很小才算成功
另外 插層後的蒙托土還要再跟PEO2000混摻
這次不是插層 而是"脫層" 理想上好像是希望PEO能讓蒙托土變成amorphous
我的理解是將晶面間距撐大到變成非晶型的樣子
如果是這樣 peak又該如何變化呢?
因為問題有點長
詳細解答者 站內500P 感謝!
急!
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