不受美國制裁影響？韓國券商報告指出，中國半導體技術仍持續增強，更在微影設備研發上取得新斬獲！

SMEE的28奈米微影設備若成功亮相，SMEE 產品將取代為數可觀的進口設備！
#微影設備 #晶片 #華為

突破1奈米製程超越矽極限！台大攜台積電、MIT 研發二維材料＋鉍

台大聯手台積電、MIT自2019 年展開跨國研究，首先由 MIT 團隊發現在二維材料上混搭半金屬鉍的電極，能大幅降低電阻並提高傳輸電流；隨後台積電研究將鉍沉積製程進行優化，台大團隊並運用氦離子束微影系統（Helium-ion beam lithography）將元件通道成功縮小至奈米尺寸，終於獲得這項突破性的研究成果。....

本集節目由「ASML」贊助播出。

解密全球最大半導體設備商ASML EUV極紫外光獨家創新技術，
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#BePartofProgress #Innovation
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＃ASML ＃微影設備
各節重點：
00:00 開頭
00:56 IC晶片是怎麼製成的？
01:40 微影技術是什麼？
02:41 卡關20年的微影技術
03:56 最先進的微影技術EUV
04:56 集頂尖技術於一身的EUV
06:41 開放創新的ASML
08:12 我們的觀點
09:43 結尾

【 製作團隊 】

｜ 客戶/專案經理：Pony
｜企劃：冰鱸、關節
｜腳本：冰鱸
｜編輯：土龍
｜剪輯後製：絲繡
｜剪輯助理：珊珊
｜演出：志祺

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【 本集參考資料 】

→半導體之島：https://bit.ly/3znkTK1
→【Did You Know? 如果EUV機台是印表機📄】：https://bit.ly/3khCXRF
→ASML in 1 minute：https://bit.ly/3nI3LNc
→Zoom in on the chip in your smartphone：https://bit.ly/3ErG4yj
→Be part of progress, work at ASML in Taiwan：https://bit.ly/3lCfU3D
→TRUMPF EUV lithography – This all happens in one second：https://bit.ly/3EsSOVG
→The Tech Cold War’s ‘Most Complicated Machine’ That’s Out of China’s Reach：https://nyti.ms/3tP9lyf
→挽救摩爾定律：ASML 極紫外光（EUV）微影技術量產的開發歷程：https://bit.ly/2XlfyFY
→【一圖弄懂半導體】台積電與英特爾在追趕的奈米製程是什麼？：https://bit.ly/3EoKdTL
→半導體產業鏈簡介：https://bit.ly/2Xuo8Cw
→半導體解密：ASML光刻機憑什麼能一廠獨大？台積電總能買到最好的光刻機？ASML有對手嗎？：https://bit.ly/3zgyTWc
→EUV 極紫外光！一個你應該知道與 台積電 相關的技術：https://bit.ly/3EkWPeN
→「撞到要賠 30 億台幣的卡車！」台積電背後的「靈魂軍火商」求人才不惜下重本：https://bit.ly/3nGPFvp
→ASML來台設技術培訓中心！助攻台積電先進製程，年產360位工程師：https://bit.ly/3CkthMl
→EUV 設備每台重量高達 180 公噸，每次運輸必須動用 3 架次貨機：https://bit.ly/3tKgHDa
→工業技術與資訊月刊：https://bit.ly/3lACp8O
→EUV世代 ASML靠併購賺到關鍵技術：https://bit.ly/3tNJ8zU
→簡單的光學突破 3C 科技瓶頸：浸潤式微影：https://bit.ly/3nDvGxG
→摩爾定律的華麗謝幕：EUV微影機：https://bit.ly/3CjoWcd
→微影製程再進化！複雜電路的祕密：https://bit.ly/3Coosl4
→Materials challenge 193-nm optics：https://bit.ly/3lxYZyX
→深夜神秘貨櫃車解密 EUV體驗車今明停靠成大：https://bit.ly/3zj9Q4T
→ASML加碼台灣 大舉徵才600人：https://ctee.com.tw/news/tech/427933.html



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投資台積電也了解一下台積電的技術護城河在哪裡吧！奈米製程裡用到的EUV技術，極紫外光是什麼呢？雖然三星、Intel英特爾也有EUV光刻機/曝光機，但是最終能夠駕馭這個技術並成功量產的還是 2330 台積電。

#台積電 #EUV #7奈米 #台積電新聞 #台積電股價

EUV的成果是2330台積電股價可以攀升的原因之一。為什麼呢？因為臺積電在這個製程領先才能在7奈米、5奈米上領先對手三星、Intel，讓訂單持續湧入。臺積電在防塵技術上的突破，就算是一顆奈米級的灰塵也會因此影響半導體廠的生產良率，而EUV光刻機對於防塵的要求又比過去採用DUV光刻機時更高，因此在三星及Intel都還卡在防塵處理這關時，台 積 電 成功改良了光罩防塵技術，就因此讓TSMC成為全球首間導入EUV技術並且達成量產的廠商，在7奈米的訂單上大幅超越死敵三星。

極紫外光大家可以理解為一種波長較短的紫外光，lithography最早是石版印刷的意思，現在也被用來稱呼為光刻技術，所以把他們兩者合起來就是“利用極紫外光來進行雕刻”的意思，那要雕什麼呢？要雕晶圓。

延伸閱讀：
台積電如何在財務數據打趴中芯國際
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挑戰晶圓代工霸主(I)─台積電VS聯電
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格羅方德退出 7 奈米 台積電笑納 AMD 需求
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資料參考：
《一文看懂光刻機》
《晶圓代工爭霸戰：半導體知識(前傳) 》
《拿走英特爾的皇冠、超車三星，台積電贏在一顆奈米級灰塵 》

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台積電拚5奈米關鍵技術！影片直擊極紫外光EUV微影技術是怎麼運作的https://www.bnext.com.tw/article/57392/asml-euv-tsmc-how-to-operation
何謂 EUV 微影？https://www.gigaphoton.com/ct/technology/euv-topics/what-is-euv-lithopgraphy